TOKYO, 23 febbraio, 2015 - Canon Inc. ha annunciato oggi che la Società sta sviluppando un sistema di litografia di prossima generazione per la produzione di semiconduttori che impiega la tecnologia nanoimprint, la quale rende possibile l'attuazione di processi ad alta risoluzione al di sotto dei 20 nanometri (1nanometro = 1/1,000,000,000 metro).
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lunedì 23 febbraio 2015
Canon al lavoro per lo sviluppo di apparecchiature litografiche per la produzione di semiconduttori
TOKYO, 23 febbraio, 2015 - Canon Inc. ha annunciato oggi che la Società sta sviluppando un sistema di litografia di prossima generazione per la produzione di semiconduttori che impiega la tecnologia nanoimprint, la quale rende possibile l'attuazione di processi ad alta risoluzione al di sotto dei 20 nanometri (1nanometro = 1/1,000,000,000 metro).
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